极紫外光刻第2页

EUV光刻机日耗电3万度台积电为电费上涨发愁：一年多花26亿

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赚翻了！ASML EUV/DUV光刻机卖疯：严重供不应求缺口达50%

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台积电40% EUV光刻机订单被砍 ASML回应：今年依然供不应求

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自主研发南大光电国产高端光刻胶通过认证已经用于50nm工艺

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ASML部分先进DUV光刻机出口受限：对准精度不高于2.5nm

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无光罩光刻来了：成本将暴降

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摩尔定律不死 Intel将冲击1nm工艺：用上下一代EUV光刻机

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